1公斤真空懸浮熔煉爐

                                                                        VLF-1000真空感應懸浮熔煉爐

        真空感應懸浮熔煉爐是將分瓣水冷銅坩堝置于強大的交變磁場中，利用感應渦流加熱水冷銅坩堝中的金屬使其融化，依靠電磁力使熔融金屬與水冷銅坩堝不產生密切接觸。這樣就避免了坩堝對需要熔煉材料的污染，從而能夠熔煉出高純度的金屬材料。通過精練后在水冷銅坩堝內的液態合金也可以通過旋轉澆注入錠模中，可以得到組織致密的合金錠。真空懸浮熔煉爐適用于鈦鋯、稀土材料等活性金屬的熔煉，鈦鋁合金的熔煉與精密鑄造。主要應用于生產高純金屬材料、半導體單晶材料、高熔點合金和3D打印等行業。

一、本設備特點

1、采用臥式爐體，側部開門結構，進出料方便，爐體結構緊湊，占地空間較小

2、可以30段程序控溫，控溫精確，可以控制升溫速率和恒溫時間。

3、可以方便的更換不同的線圈以滿足熔煉不同千克數的物料

4、安裝有觀察孔，可以清晰的爐內坩堝物料的情況

5、可安裝紅外測溫儀，可以精確的測量坩堝內液體的溫度（選購）。

6、配有擴散泵或分子泵機組，真空度可達5X10-3次方

7、電極和坩堝可以在爐體外手動轉動，液體可以在腔體內完成傾倒和澆注，這樣就避免了澆注的危險和可以在真空下澆注。

8、具有二次加料系統。

9、轉動電極和爐體之間采用威爾遜密封，密封性能好，轉動教輕松。

10、安裝有水冷機，水冷機具有欠壓和斷水報警，使用安全可靠（選購）。

11、采用IGBT電源，具有過溫、斷水保護并具有報警、輸出電流顯示等功能。

12、VLF系列真空懸浮熔煉爐是一款專用的現代化高純度熔煉設備，該設備真空度高、結構緊湊、外形美觀，是一款適合于大專院校、科院院所和工礦企業等做材料高純熔煉、鑄造用的理想產品。本產品主要在真空或保護氣氛條件下對金屬材料（如鈦、鎳、鈷等合金）及稀土超磁、伸縮合金、濺射靶材、多晶硅、高純稀土金屬的冶煉和提純。

二、懸浮熔煉爐的有點

     1、能夠熔煉高熔點的金屬材料；

          2、由于沒有來自坩堝的雜質，可以熔煉超高純度的金屬材料及活潑的金屬材料；
          3、由于很強的電磁攪拌，能夠生產成分組織均勻的合金，不受熔煉材料成分比重的影響；
         4、縮短熔化時間，達到快速熔化；
         5、對水冷銅坩堝的損傷較小，水冷紫銅坩堝具有良好的使用壽命；
         6、水冷銅坩堝和熔融的金屬液之間的軟接觸，減少了坩堝的冷卻負載，減少了熱量損失，降低能耗；
         7、金屬熔液在非接觸狀態下容易從坩堝內倒出；
         8、可熔煉任何形狀的裝添材料，如塊狀、粉狀、片狀、屑狀、海綿狀等。

三、水冷系統（選購）：感應爐、水冷通坩堝上需要水冷卻。

四、結構說明

    本產品由爐蓋、爐體、回轉機構、澆注裝置、充氣系統、真空系統、IGBT 電源控制系統等組成

1、爐體：為全不銹鋼結構。爐殼采用雙層水冷結構，保證爐殼溫度不超過60℃。爐蓋打開方式為手動，并加有鎖緊裝置，爐蓋上設有觀察孔，方便觀察爐內情況。

2、爐架：由型鋼鋼板組焊成柜架結構，爐體安置在爐架上。

3、回轉機構：與爐體用法蘭連接，感應線圈由銅管繞成螺旋形從爐體引出，采用威爾遜密封，密封可靠，坩堝可放在感應線圈上通過旋轉機構做任意角度旋轉以完成溶化后的熔液傾倒澆鑄。

4、真空系統：采用二級泵，即一臺擴散泵（分子泵）與一臺直聯泵，真空機組上設有高真空擋板閥以及KF 快速連接真空放氣閥和充氣閥。

5、電源控制系統：IGBT 懸浮專用電源、全數字電路等，電氣系統設有過流、過壓返饋及保護電路，電控屏箱按西門子標準制作，控溫精度高，操作方便。

6、水冷系統：由各種閥、管道等相關裝置組成，并設有斷水時聲光報警、自動切斷加熱電源功能。

7、水溫檢測：安裝有溫度計檢測水冷銅坩堝的出水溫度，溫度過高時會自動保護，以免水冷銅坩堝被燒壞。

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