6英寸近距離旋轉蒸發鍍膜爐
RTP-Ⅱ-CSS-150是一款6英寸近距離旋轉蒸發鍍膜爐，腔體采用高真空不銹鋼，此款設備可用于蒸發或CSS鍍膜實驗，氧化物、半導體或者太陽能基片退火實驗，其載樣臺尺寸為Φ150，頂部載樣臺可以旋轉提高鍍膜均勻度。此款高溫爐的加熱原件是兩組紅外燈管（分別位于頂部和底部）。最大升溫速率是20℃/S
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CSS
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型號 |
RTP-Ⅱ-CSS-150 |
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視頻 |
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最高溫度 |
900℃ |
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電源電壓 |
AC三相380V | ||
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功率 |
16KW |
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腔體結構和真空室
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雙加熱器，兩個溫度控制器，可單獨控溫 |
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真空腔體采用304不銹鋼結構，正前方帶有直徑100mm的觀察窗 |
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真空法蘭由304不銹鋼制成 |
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法蘭由硅膠O型圈密封，可通過機械泵實現1Pa的真空壓力 |
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加熱器和樣品架
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兩組短波紅外燈作為加熱原件，用于快速加熱 |
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兩個加熱器之間的距離可在10~60mm之間調節 |
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上下加熱器之間配備擋板 |
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上加熱器可旋轉，轉速為0~30rpm |
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加熱器由不銹鋼制成，帶有水冷夾套，可減少熱輻射并實現快速冷卻 |
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6英寸圓形晶圓支架內置頂部加熱器，可裝載基板 |
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采用導熱率較高的氮化鋁板陶瓷片（直徑6英寸×0.5mm厚）作為載樣臺，以達到較好的加熱均勻性 |
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兩個英國進口歐陸3204數字溫度控制器，控溫精度±1℃，可獨立控制頂部和底部加熱器 |
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測溫方式 |
兩根K型熱電偶，一根測上加熱臺，一根測下加熱臺 |
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| 控溫方式 |
采用歐陸3204程序控溫儀表 1、高精度的溫度儀表，LCD液晶顯示屏，5位數值顯示，通過快速設置配置簡單，C/F單位切換 2、1組程序8步，共4組程序 3、具有過溫保護 斷偶保護，過溫或斷偶時電爐加熱電路自動切斷,，（當電爐溫度超過900度或熱電偶燒斷時，主電路上的交流繼電器會自動斷開，主電路斷開，面板上ON燈熄滅，OFF燈亮，有限的保護電爐）。 4、支持各種通訊接口 Modbus, Ethernet, Profibus，Devicenet，可以與任意PLC或上位系統集成 5、具有斷電保護功能，即斷電后再給電啟動爐子時、程序不是從起始溫度開始升、而是從斷電時爐溫開始升。 6、儀表具有溫度自整定的功能 |
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| 工作溫度 | 每個加熱器最高溫度≤900℃，兩個加熱器之間的最大溫差≤300℃ | ||
| 真空泵 | 機械泵型號:BSV30 | ||
| 抽速：8L/s | |||
| 功率：1.1KW | |||
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冷水機 CW6200 |
電源 |
3PH-380V/50HZ |
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總功率 |
8KW |
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最大揚程 |
30M |
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冷凍水量 |
2.8m3/h |
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水箱容量 |
110L |
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制冷量 |
13244Kcal/h |
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出入水口 |
Rp1/2’’ |
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機器尺寸 |
1300×650×1145(長X寬X高) |
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真空蒸鍍設備主要由真空室和抽真空系統組成，真空室內有蒸發源(即蒸發加熱器)、基片及基片架、基片加熱器、排氣系統等。
將鍍膜材料置于真空室內的蒸發源中，在高真空條件下，通過蒸發源加熱使其蒸發，當蒸氣分子的平均自由程大于真空室的線性尺寸以后，膜材蒸氣的原子和分子從蒸發源表面逸出后，很少受到其他分子或原子的碰撞與阻礙，可直接到達被鍍的基片表面上，由于基片溫度較低，膜材蒸氣粒子凝結其上而成膜。
為了提高蒸發分子與基片的附著力，可以對基片進行適當的加熱或離子清洗使其活化。真空蒸發鍍膜從物料蒸發、運輸到沉積成膜，經歷的物理過程如下:
(1)利用各種方式將其他形式的能量轉換成熱能，加熱膜材使之蒸發或升華，成為具有一定能量(0.1~0.3eV)的氣態粒子(原子、分子或原子團):
(2)氣態粒子離開膜材表面，以相當的運動速度基本上無碰撞的直線輸運到基片表面;
(3)到達基片表面的氣態粒子凝聚形核后生長成固相薄膜;
(4)組成薄膜的原子重組排列或產生化學鍵合
